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你知道申請美國專利要注意哪些問題？

2018-05-17 09:49 來源：lh0395.cn 點擊：次編輯：易辰國際

一、申請文件修改注意事項
（一）對文件格式的修改
中國專利申請，要求摘要、權(quán)利要求書、說明書、說明書附圖分別連續(xù)編寫頁碼，并且說明書不得添加段落標號,然而，美國申請，要求說明書、權(quán)利要求書、摘要一起連續(xù)編寫頁碼，而說明書附圖另外連續(xù)編寫頁碼。此外，說明書需要包含段落編號。因此，在準備美國申請時，需要注意頁碼的設置和段落編號的添加，以符合基本的形式要求。

（二）對文件實體部分的修改
專利文件一般包括說明書、權(quán)利要求書、摘要、附圖，下面將針對各部分進行詳細說明。
1. 說明書
（1）相關申請的交叉引用
對于中國專利申請，申請人要求優(yōu)先權(quán)的，只需要在請求書中填寫相關信息即可。而對于美國專利申請，除了需要在申請數(shù)據(jù)頁（ADS）中填寫相關信息以外，還必須在說明書的開頭部分寫明對于相關申請的交叉引用。借由該交叉引用聲明，申請人將被允許依據(jù)優(yōu)先權(quán)文件來修改或補充美國專利申請中的翻譯錯誤或遺漏。

（2）背景技術(shù)
在一些中國專利申請中，對于背景技術(shù)部分的描述可能包含有與理解申請無關的過多空泛描述、關于現(xiàn)有技術(shù)方案的具體描述以及對于現(xiàn)有技術(shù)方案的缺點的過多評論。然而，在美國專利申請實踐中，背景技術(shù)部分討論的技術(shù)被認為是申請人自己承認的現(xiàn)有技術(shù)，審查員在質(zhì)疑申請的專利性時可以直接引用背景技術(shù)部分的描述而不另外檢索對比文件。另外，在背景技術(shù)部分對現(xiàn)有技術(shù)進行的討論也可能對權(quán)利行使造成障礙。
因此，在準備美國專利申請時，可以縮減或刪除空泛描述，刪除對“現(xiàn)有技術(shù)”的措辭，簡要描述現(xiàn)有技術(shù)內(nèi)容（不要將現(xiàn)有技術(shù)的內(nèi)容排除在本申請之外，或者可以將現(xiàn)有技術(shù)的內(nèi)容作為本申請的部分而移到具體實施方式部分中描述）以及去除對現(xiàn)有技術(shù)方案的缺點的評述。
（3）發(fā)明內(nèi)容
在一些中國專利申請中，對于發(fā)明內(nèi)容部分的描述可能包含有要解決的技術(shù)問題或發(fā)明目的、有益效果的描述。這些關于問題或目的、有益效果的描述可能會對后續(xù)權(quán)利要求范圍解釋造成限縮，或者如果描述不當還可能會造成不符合35 U.S.C.§112關于可實施性的問題。
（4）附圖說明
（5）具體實施方式

2 對權(quán)利要求的修改
（1）方法權(quán)利要求補充實體
（2）關于裝置權(quán)利要求前序部分的修改
（3）關于選擇性表達的修改
（4）關于功能模塊權(quán)項的修改
（5）關于計算機程序和計算機存儲介質(zhì)權(quán)利要求的添加
（6）關于多重引用的修改。
（7）關于權(quán)利要求的項數(shù)的刪減
3. 對摘要的修改
4. 對附圖的修改

三、結(jié)語
在準備美國專利申請時，要考慮美中專利法和實踐的差異，對專利申請文件的格式和內(nèi)容進行全面的審核與修改，以盡可能確保文件格式符合相關規(guī)定，避免特征和方案的不清楚、避免權(quán)利要求得不到說明書的支持、避免說明書的描述對權(quán)利要求解釋的可能限縮、避免影響發(fā)明的可實施性的內(nèi)容。

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