申請美國專利要避免哪些雷區(qū)
2019-03-26 17:46 來源：lh0395.cn 點擊：次 編輯：易辰國際
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我國專利法規(guī)定的專利類型有三類：發(fā)明專利、實用新型專利及外觀設(shè)計專利，一項產(chǎn)品發(fā)明可同時申請多種專利，技術(shù)方案也可以同時申請實用新型和發(fā)明專利。
專利申請是保護技術(shù)成果的重要手段，但在申請過程中總會有許多“坑”在等待著諸位申請人，千萬要小心。
專利申請前不做任何檢索
有些發(fā)明人提交的專利申請文件沒有做查新檢索，對技術(shù)方案的新穎性如何不確定，根本不知道其技術(shù)方案有沒有公開過或公開使用過，這也是我國技術(shù)人員的通病——信息檢索和收集信息的能力極低。
就公開而言，全世界范圍內(nèi)的任何文獻都可影響技術(shù)方案的新穎性。就公開使用而言，只有國內(nèi)的使用才影響技術(shù)方案的新穎性。也就是說，國外已經(jīng)普遍使用過的東西，如果國內(nèi)沒有出現(xiàn)，各種文獻也沒有相關(guān)記載，那你就可以申請專利。
如果他人已經(jīng)就某一技術(shù)方案申請過專利或者在相關(guān)文獻中公開，你沒有做檢索也去就這一技術(shù)方案申請專利，那只能是白白浪費時間、金錢和精力了。
產(chǎn)品投入大規(guī)模生產(chǎn)后才申請專利
在與發(fā)明人就申請專利的技術(shù)內(nèi)容進行交流時，他們中有很多人都有這樣的想法：這一技術(shù)方案還未投入生產(chǎn)，也沒有產(chǎn)品問世，此時申請專利是為時過早，等產(chǎn)品大規(guī)模投入生產(chǎn)后再申請專利更合適。
殊不知，這時已經(jīng)晚了，即使你僥幸獲得授權(quán)，專利也處在不穩(wěn)定狀態(tài)之中。此時如果你發(fā)現(xiàn)有人侵權(quán)并提起訴訟，侵權(quán)人則會以專利申請之日技術(shù)已經(jīng)被公開為由進行抗辯。
你不但打不嬴官司，而且以前為申請專利所花費的精力、時間、金錢統(tǒng)統(tǒng)付之東流。專利申請的基礎(chǔ)不是已經(jīng)在市場上存在的產(chǎn)品，也不一定是已經(jīng)成型的產(chǎn)品。只要有了切實可行的想法，就可以著手申請文件的撰寫了。
對專利缺乏有效的管理
有些企業(yè)申請了很多專利，但無專人管理。專利文件之間有的互相沖突，有的已無市場價值還在交納年費。有的專利權(quán)已經(jīng)遭受侵犯但企業(yè)管理者對專利特征不了解，不能及時提起訴訟，還有的則是專利文書撰寫的申請質(zhì)量差，不能起到應該有的保護作用。
一項技術(shù)成果只能申請一類專利
有部分發(fā)明人認為一項技術(shù)成果一次只能申請一類專利，即只能申請發(fā)明專利或只能申請實用新型專利或者只能申請外觀設(shè)計專利。
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